产品简介
Sunbloss®Antifade成像缓冲液，旨在减轻固定类样本成像中的荧光淬灭问题。本产品可增加荧光稳定性，增强强信号，保护弱信号，使可采样时间增加。可匹配宽场成像、共聚焦成像、部分超分辨率成像等多种场景使用。在超分辨成像中，如高分辨率转盘共聚焦、STED、SIM 等成像，通常会匹配比常规成像更强的激发强度，带来更大的光毒性，因此本产品可用于上述场景中的荧光保护和增强。此外，在 3D 成像中，通常会对一个区域的附近的 Z 区域连续多次激发，对样品的损伤也更强，造成不同深度的信号不均一，本产品也可以用于增强 3D 成像的图像均一性。
应用验证
| 应用及验证 | 物种反应性 |
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详细信息
推荐稀释比